中芯国际回应美国施压ASML断供光刻机:EUV还在纸面上 一切正常

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针对荷兰ASML公司推迟供应EUV光刻机的传闻,中芯国际刚刚也发表了声明,强调“EUV(极紫外光)还在纸面阶段”,目前公司一切运行正常。

根据之前的报道,2018年4月份中芯国际向ASML公司订购了一台EUV光刻机,虽然没有公布具体情况,但是EUV光刻机售价通常在1.2亿欧元,价值将近10亿人民币,是半导体制造过程中最核心也是最耗费成本的装备。

中芯国际回应美国施压ASML断供光刻机:EUV还在纸面上 一切正常 EUV光刻机

按照进度来看,中芯国际应该在今年底收到这台光刻机,明年完成安装、调试,主要用来研究7nm及以下工艺,并不是用于大规模量产的,一两年内还达不到这个程度。

对于ASML公司推迟供应EUV光刻机,中芯国际方面下午对媒体表示,“极紫外光(EUV)还在纸面工作阶段,未进行相关活动。公司先进工艺研发进展顺利。目前,研发与生产的连结一切正常。客户与设备导入正常运作。”

根据中芯国际Q2季度财报上发布的消息,14nm已经进入客户风险量产阶段,目前流片数量10多个,今年秋季会正式量产,年底贡献有意义的营收,不过大规模量产还要到2021年。

14nm之后还有改进型的12nm FinFET工艺,根据中芯国际之前介绍,该工艺相比14nm晶体管尺寸进一步缩微,功耗降低20%、性能提升10%,错误率降低20%,也已经进入了客户导入阶段,进展顺利,预计年底会有多个芯片流片验证。

再往后,中芯国际表示还会有第二代FinFET工艺追赶先进水平,预计2020年底会有试验产能,不仅是有N+1,还会有更先进一代的N+2节点。不过N+1、N+2具体的工艺水平并没有披露,前者很有可能就是研发中的7nm工艺。

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